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邁可諾技術有限公司


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聯系人:趙先生 (經理)

  • NXQ Mask Alignment光刻機

    詳細摘要: 恩科優光刻機分為半自動和全自動兩大系列。其中,NXQ4000系列光刻機是以半自動系統為主。該系統*的操作性,超高的分辨率,均勻的光學系統,穩定的接近式和接觸式光...

    產品型號:NXQ4000系列所在地:上海市更新時間:2021-05-21 在線留言

  • 光刻機Aligner MMA

    詳細摘要: MYCRO*荷蘭MMA16光刻機(Mask Aligner),是的光刻系統,為半導體制造和科研領域提供品質優良穩定的全波段紫外光刻機系統,廣泛的應用于半導體光刻...

    產品型號:MMA16所在地:上海市更新時間:2021-05-21 在線留言

  • 光刻機Mask Aligner

    詳細摘要: 光刻機分為半自動和全自動兩大系列。MEMA-800是研發中心和大學中的微機開發。操縱器,壓力傳感器,加速度傳感器,功率設備等。倒裝芯片/BGA/CSP的暴露。暴...

    產品型號:MEMA-800所在地:上海市更新時間:2021-05-20 在線留言

  • 掩膜曝光光刻機Mask Aligner

    詳細摘要: 光刻機分為半自動和全自動兩大系列。MPEM系列是高精度的雙向掩模對準器,在晶片的頂側和底側包括對準光學系統,因此可以與頂側對準對頂側表面進行接觸,軟接觸和接近圖...

    產品型號:MPEM-1600所在地:上海市更新時間:2021-05-20 在線留言

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